Lactato de butilo: una nueva opción para la limpieza de fotorresistentes
En el complejo proceso de fabricación de semiconductores, la limpieza de la fotorresistencia es un paso crucial para garantizar la calidad del chip. Incluso las partículas residuales más diminutas o los iones metálicos en la superficie de la fotorresistencia pueden causar problemas importantes en procesos posteriores, como la litografía y el grabado. Estos contaminantes pueden alterar las propiedades fotosensibles del chip.
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