フォトレジストにおける乳酸エチルの応用

フォトレジストとは？

フォトレジストは、感光性樹脂、増感剤、溶剤の3つの主成分からなる感光性混合液です。フォトレジストは、次の 3 つのタイプに分類できます。

 

①光重合型 ビニルモノマーが光の作用でフリーラジカルを発生し、フリーラジカルがさらにモノマーの重合を開始し、最終的にポリマーを生成し、ポジ画像を形成する特性を持っています。

②光分解型 キノンアジド化合物を含む材料を使用し、光を当てると光分解反応が起こり、油溶性から水溶性に変化し、ポジ型の接着剤になります。

③光架橋型 ポリビニルアルコールラウレートを感光剤とし、光の作用で分子内の二重結合が開き、鎖が架橋して不溶性ネットワークを形成する代表的なネガ型フォトレジストです。

フォトレジストの塗布

1.アナログ半導体；

2.発光ダイオード LED;

3.微小電気機械システムMEMS；

4.太陽光発電PV；

5.マイクロフルイディクスとバイオチップ；

6.オプトエレクトロニクス/フォトニクス；

7.包装。

の適用 乳酸エチル フォトレジストで

乳酸エチルは、主にNMP（N-メチル-2-ピロリドン）を置き換えるものです

1. フォトレジストの洗浄液として、 乳酸エチル NMP を置き換えることができます。

IC業界でのフォトレジストの応用、集積回路があるので、フォトレジストがあります。また、フォトレジストを使用する工程では、余分なフォトレジストを洗浄する工程があります。洗浄工程は、フォトレジストでエッチングした後、水とアルカリ溶液で洗浄するが、水とアルカリ溶液で洗浄する前に、中間移行工程があり、これまでNMPで洗浄していたが、NMPの毒性により、最近、洗浄用の乳酸エステルに置き換えられました。これは、集積回路でのアプリケーションです。したがって、フォトレジストが一般的に提供され、洗浄溶液も提供される。そこで、フォトレジストとフォトレジストの洗浄液を置き換える製品の組み合わせです。 乳酸エチル.

集積回路のほかに、主に 2 枚のガラス板の中央に液晶を注入し、封止材で封止するディスプレイ産業、LCD 産業もあります。カプセル化後、トリミングして洗浄する必要があります。また、乳酸で洗浄する必要があります。以前は NMP が使用されていましたが、現在は代わりに乳酸が使用されています。その主な利点は、NMP が有毒で環境を汚染することです。 乳酸エチル 人体に無害で、環境にも無害です。

2. 乳酸エステルの洗浄回収工程は、基本的に回収液の精留で約90%回収でき、洗浄ロスの10%を補うことができます。精留と精製のプロセスの費用は約 $0.4/kg のみであり、全体の回収は費用対効果が高いです。 .このようにして、低価格で洗浄工場に供給することができ、リサイクルと再蒸発のために回収することができ、顧客の環境保護問題を解決するだけでなく、生産コストも削減します。これは、長期的なリサイクルにとって非常に優れたソリューションです。