乳酸ブチル:フォトレジスト洗浄の新たな選択肢
半導体製造の複雑なプロセスにおいて、フォトレジスト洗浄はチップの品質を確保するための重要なステップです。フォトレジストの表面にごく小さな残留粒子や金属イオンが残っているだけでも、リソグラフィーやエッチングなどの後続のプロセスで重大な問題を引き起こす可能性があります。これらの汚染物質はフォトレジストの感光特性を変え、パターンの変形、ぼやけ、寸法偏差を引き起こし、最終的にはチップの回路構造と性能に影響を及ぼします。高度な半導体製造により線幅がナノメートル スケールにまで縮小されるにつれて、フォトレジストの清浄度要件は前例のないレベルに達しています。ブチル乳酸は、その独自の利点により、フォトレジスト洗浄の理想的な選択肢として浮上しました。…