Бутиллактат: новый выбор для очистки фоторезиста
В сложном процессе производства полупроводников очистка фоторезиста является важнейшим шагом для обеспечения качества чипа. Даже мельчайшие остаточные частицы или ионы металла на поверхности фоторезиста могут вызвать значительные проблемы в последующих процессах, таких как литография и травление. Эти загрязнители могут изменить светочувствительные свойства …
Бутиллактат: новый выбор для очистки фоторезиста Читать полностью »